| 摘要 |
本発明は、保存安定性、特に過酷な条件（高温高湿条件）下での保存安定性に優れるガスバリア性フィルムを提供することを目的とする。本発明は、基材と、下記化学式（１）で表される化学組成を有し、かつ下記数式１及び数式２の関係を満足するシリコン含有膜とを含む、ガスバリア性フィルムに関する。ＳｉＯｘＮｙＭｚ ・・・（１）０．００１≦Ｙ／（Ｘ＋Ｙ）≦０．２５ ・・・数式１３．３０≦３Ｙ＋２Ｘ≦４．８０ ・・・数式２前記化学式（１）中、Ｍは長周期型周期表の第２〜１４族の元素からなる群から選択される少なくとも１種（ただし、ケイ素及び炭素を除く）を示し、ｚは０．０１〜０．３であり、前記数式１及び数式２中、Ｘ＝ｘ／（１＋（ａｚ／４））、Ｙ＝ｙ／（１＋（ａｚ／４））（ただし、ａは元素Ｍの価数である。）である。 |
