真空処理装置用の基板スプレッディングデバイス、基板スプレッディングデバイスを有する真空処理装置、及びそれを動作させる方法

摘要

フレキシブル基板を処理するための処理装置、詳細には、フレキシブル基板を処理するための真空処理装置が、記載される。処理装置は、真空チャンバと、真空チャンバ内の処理ドラムであって、第一の方向に延びる軸の周りに回転するように構成されている処理ドラムと、処理ドラムに隣接する加熱デバイスであって、第一の方向に基板を広げるように又は第一の方向への基板の広がりを維持するように構成されており、基板移送方向と平行な方向の寸法が少なくとも２０ｍｍである加熱デバイスとを含む。【選択図】図１