| 摘要 |
【課題】液浸リソグラフィーにおいてはレジスト表面の滑水性をよりいっそう高め、ＥＢやＥＵＶリソグラフィーにおいてはアウトガスの発生を一段と抑えて、エッジラフネスを小さくすることが可能となるレジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】（Ａ）フッ素原子含有ポリマー、（Ｂ）ベース樹脂、（Ｃ）酸発生剤、（Ｄ−１）炭素数５〜８のケトン類、アルコキシ基、カルボニル基及びエステル基から選ばれる１つ以上を含む炭素数４〜６のアルコール類、ヒドロキシ基又は２つのエーテル基を含む炭素数３〜６のエーテル類、並びにエーテル基又はヒドロキシ基を含む炭素数４〜９のエステル類から選ばれる第１の溶剤、及び（Ｄ−２）炭素数６〜９の単環のラクトン環を含む第２の溶剤を含み、前記第２の溶剤がベース樹脂１００質量部に対して２００質量部を超え１,０００質量部以下の範囲で添加されているレジスト組成物。【選択図】なし |
