发明名称 多層配線構造体及び多層配線構造体を用いた半導体装置
摘要 【課題】配線層と絶縁層との剥離に対する耐性が向上した多層配線構造体を提供する。【解決手段】本発明の多層配線構造体は、基板上に設けられた複数の第1配線層と複数の第1配線層の各々を絶縁する複数の第1絶縁層とを含む第1領域と、第1領域に隣接し、複数の第1配線層の体積密度よりも小さい第2配線層と、複数の第1絶縁層の各々と同一層である複数の第2絶縁層とを含む第2領域と、第2領域及び前記基板の端部に隣接し、複数の第1絶縁層の各々と同一層であり、各々が接して積層されている複数の第3絶縁層とを含む第3領域とを含む。【選択図】図5
申请公布号 JP2017017181(A) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 JP20150132502 申请日期 2015.07.01
申请人 大日本印刷株式会社 发明人 高野 貴正;工藤 寛
分类号 H05K3/46;H01L23/12 主分类号 H05K3/46
代理机构 代理人
主权项
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