| 摘要 |
본 발명은 대면적 기판에 대한 플라즈마 공정을 수행하기 위한 챔버의 세정 효율을 향상시킬 수 있도록 한 플라즈마 처리 장치 및 이를 이용한 챔버 세정 방법에 관한 것으로, 플라즈마 처리 장치는 공정 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버 내부에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지부재; 상기 기판 지지부재에 대향되도록 상기 챔버 내부에 설치되어 상기 공정 공간에 공정 가스 또는 세정 가스를 분사하는 가스 분사부재; 상기 가스 분사부재에 제 1 RF 전력을 공급하는 제 1 고주파 전원; 상기 챔버의 내측면에 절연되도록 설치된 전극부; 및 상기 전극부에 제 2 RF 전력을 공급하는 제 2 고주파 전원을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다. |
