发明名称 Unit for supplying liquid and Apparatus for treating substrate with the unit
摘要 본 발명은 기판을 액 처리하는 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 내부에 처리 공간을 가지는 처리 용기, 상기 처리 공간에서 기판을 지지하는 기판 지지 유닛, 그리고 상기 기판 지지 유닛에 지지된 기판 상에 처리액을 공급하는 액 공급 유닛을 포함하되, 상기 액 공급 유닛은 처리액을 토출하는 노즐, 상기 노즐을 지지하는 아암, 상기 아암을 이동시키는 이동 부재, 그리고 상기 노즐의 상태 또는 상기 노즐로부터 토출되는 액 상태를 촬영하는 카메라를 포함하되, 상기 카메라는 상기 이동 부재에 고정 결합된다. 이로 인해 카메라 무게로 인한 아암의 처짐을 방지할 수 있다.
申请公布号 KR101697499(B1) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 KR20150160522 申请日期 2015.11.16
申请人 세메스 주식회사 发明人 김광섭;양근화
分类号 H01L21/66;H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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