| 摘要 |
【課題】損傷など与えることなく、様々な基板の上に直接にグラフェンのパターンが形成できるようにする。【解決手段】まず、第１工程Ｓ１０１で、基板の上に炭素を含む化合物のプラズマを供給する（プラズマ供給工程）。また、第２工程１０２で、プラズマが供給されている基板の表面のグラフェン形成領域にレーザーを照射する（レーザー照射工程）。これらのことにより、基板の表面のグラフェン形成領域にグラフェンを形成する。炭素を含む化合物は、ＣＨ4であればよい。プラズマは、ＣＨ4とＡｒとの混合ガスより生成したものであれば良い。基板のグラフェン形成領域の表面は、照射するレーザーを吸収する材料から構成されていると良い。【選択図】 図１ |
