電磁パルス照射方法及び電磁パルス照射システム

摘要

【課題】電磁パルスの拡散を抑制しながら、大出力の電磁パルスを照射できる電磁パルス照射方法及びシステムを実現する。【解決手段】電磁パルス照射方法が、電子機器を備えた目標物（２）の位置を特定するステップと、目標物（２）の位置に応じて集光点（４）を設定するステップと、集光点（４）にレーザ光（５）を集光して集光点（４）においてプラズマ（６）を発生し、プラズマ（６）から生じた電磁パルスを電子機器に照射するステップとを具備する。【選択図】図１