发明名称 グリッド偏光素子及びグリッド偏光素子製造方法
摘要 【課題】 深紫外域を含む紫外域のある程度広い波長域において予定された通りの優れた偏光性能を安定して発揮するグリッド偏光素子を提供する。【解決手段】 透明基板1上の縞状のグリッド2を形成する各線状部3は、透明基板1に近い側の第一の層31と、透明基板1から遠い側の第二の層32とで形成され、第一の層31はスパッタリングにより形成された貴金属の層であり、第二の層32は原子層堆積法により形成された金属(貴金属を除く)又はシリコンの酸化物、窒化物又は酸窒化物の層である。第一の層31は、貴金属の膜をエッチングすることで縞状とされた層であり、第二の層32はエッチングの際にマスクとして使用された層であってエッチング後も残留した層である。【選択図】 図1
申请公布号 JP2017016040(A) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 JP20150134821 申请日期 2015.07.03
申请人 ウシオ電機株式会社 发明人 鶴岡 和之
分类号 G02B5/30 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人
主权项
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