リソグラフィ装置

摘要

【課題】 パターニングデバイスによる放射の吸収により生じるエラーを減少または削減するリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】 リソグラフィ装置は、所望のパターンに従って放射ビーム（Ｂ）をパターン付けするように機能しかつ放射ビームが通過する主要平面（１２）を有するパターニングデバイス（ＭＡ）を支持するように構成されたサポート構造（ＭＴ）と、ガス流をパターニングデバイス上に誘導するように構成された出口開口部（１００）と、出口開口部から出たガスを抽出するように構成された入口開口部（１５０）とを有する。出口開口部および入口開口部は、パターニングデバイスの主要平面に面した対向面にある。【選択図】 図６