| 摘要 |
【課題】投影装置が画像に合成するパターンがオーバーラップ領域において重なっていても、各投影装置のパターンを把握可能にする。【解決手段】各々の投影領域の一部が重なるように配置される第１および第２の投影装置を有する投影システムにおいて、第１の投影装置は、互いに異なる第１または第２の合成方法のいずれかを用いて第１のパターンを画像に合成して得られた合成画像を投影し、第２の投影装置は、第１または第２の合成方法のいずれかを用いて第２のパターンを画像に合成して得られた合成画像を投影する。第１、第２の投影装置は、第１、第２および第３の期間において、第１および第２の投影装置が用いる合成方法の組み合わせが異なるように制御される。３つの期間で得られた投影画像の撮影画像のうちの２つの撮影画像から第１のパターンが、他の２つの撮影画像から第２のパターンが抽出される。【選択図】図１Ａ |
