发明名称 用于堆叠管芯封装的无线电‑和电磁干扰穿透硅通孔及制造方法
摘要 装置包括有将RF管芯中的区从无线电‑电磁干扰屏蔽的屏蔽穿透硅通孔和管芯背面网格盖子的射频管芯。
申请公布号 CN103534803B 申请公布日期 2017.01.18
申请号 CN201280021956.9 申请日期 2012.04.27
申请人 英特尔公司 发明人 T·喀姆盖恩;V·R·拉奥
分类号 H01L23/66(2006.01)I;H05K9/00(2006.01)I 主分类号 H01L23/66(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 何焜
主权项 一种装置,所述装置包括:射频(RF)第一管芯,包括若干穿透硅通孔(TSV):有源表面和背面表面;所述RF第一管芯中的多个区;至少一个TSV,所述至少一个TSV传输信号、功率和接地之一(信号TSV);以及至少一个TSV屏蔽区,位于所述多个区之中,其中所述TSV屏蔽区包括:间隔开的屏蔽TSV的屏蔽TSV围合结构,其沿所述TSV屏蔽区的至少一部分周围形成边界;网格盖子,放置在所述管芯背面上并匹配所述边界网格;第一多个屏蔽TSV;以及与所述第一多个屏蔽TSV同心的后续多个屏蔽TSV,所述后续多个屏蔽TSV交错以填充所述第一多个屏蔽TSV之间的间隙。
地址 美国加利福尼亚州