- IMPROVED METROLOGY THROUGH USE OF FEED FORWARD FEED SIDEWAYS AND MEASUREMENT CELL RE-USE

摘要

계측이 반도체 디바이스 제작 동안에 a) 부분적으로 제작된 디바이스의 층 내에 형성된 제1 테스트 셀 상에서 제1 측정을 모델링하고; b) 상기 층 내의 제2 테스트 셀 상에서 제2 측정을 수행하고; c) 제2 측정으로부터의 정보를 제1 측정의 모델링으로 피드하고; 제1 테스트 셀 및 제2 테스트 셀을 포함하는 층 상에서 리소그라피 패턴이 형성된 이후 d) 상기 a) 및 b)으로부터의 정보를 각각 이용하여 제1 테스트 셀 및 제2 테스트 셀 상에서 제3 측정 및 제4 측정을 각각 모델링함으로써 구현될 수 있다.