| 摘要 |
복수의 기판을 선반 형상으로 보유 지지한 보유 지지구를 반응 용기 내로 반입하고, 반응관 내에 처리 가스를 공급해서 성막 처리를 행함에 있어서, 기판 사이에서의 막 두께의 균일성을 높게 하는 종형 열처리 장치가 제공된다. 상기 반응 용기 내에 성막 가스를 공급하기 위한 가스 공급부와, 상기 기판 보유 지지구에 보유 지지된 상기 복수의 피처리 기판의 배치 영역보다 상방 및 하방에 각각 위치하도록 설치되는 가스 분포 조정 부재를 구비하도록 장치를 구성한다. 그리고, 상기 가스 분포 조정 부재에는, 상기 기판 보유 지지구의 천장판보다 하방, 또한 상기 기판 보유 지지구의 저판보다 상방에 설치되고, 각각 요철이 각각 형성된 제1 판상 부재와, 제2 판상 부재가 포함되고, 상기 제1 판상 부재는 제1 표면적을 갖고, 상기 제2 판상 부재는, 상기 제1 표면적과는 다른 제2 표면적을 갖는다. |
