发明名称 使金属镶样两端导电的镶样机构及其镶样方法
摘要 本发明提供一种使金属镶样两端导电的镶样机构及其镶样方法,其镶样机构包括镶样筒,镶样筒内设置有升降式托台,且升降式托台与镶样筒内壁之间滑动密封设置,镶样筒的上端设置有压块,压块内设置有与镶样筒内部相连通的内腔,压块的内腔内滑动设置有活塞,活塞的上端与压块内壁之间设置有弹簧。以解决现有金属镶样件在电解抛光等环节需砸开镶样件,容易破坏金属件处理面的问题。本发明属于镶样件实验领域。
申请公布号 CN106338425A 申请公布日期 2017.01.18
申请号 CN201610919428.5 申请日期 2016.10.21
申请人 贵州大学 发明人 钟丽琼;梁益龙;胡浩
分类号 G01N1/36(2006.01)I 主分类号 G01N1/36(2006.01)I
代理机构 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人 李龙;刘楠
主权项 一种使金属镶样两端导电的镶样机构,其特征在于:包括镶样筒(1),镶样筒(1)内设置有升降式托台(2),且升降式托台(2)与镶样筒(1)内壁之间滑动密封设置,镶样筒(1)的上端设置有压块(3),压块(3)内设置有与镶样筒(1)内部相连通的内腔(31),压块(3)的内腔(31)内滑动设置有活塞(4),活塞(4)的上端与压块(3)内壁之间设置有弹簧(5)。
地址 550025 贵州省贵阳市花溪区贵州大学北校区科学技术处