发明名称 一种LB量子点薄膜、发光二极管及其制备方法
摘要 本发明公开一种LB量子点薄膜、发光二极管及其制备方法,LB量子点薄膜制备方法包括步骤:滴加提纯后量子点溶液到水/乙二醇界面,使量子点溶液均匀分散在水/乙二醇界面,待有机溶剂挥发5‑30mins,量子点均匀平铺,控制膜压7.5‑40mN/m,将水/乙二醇下的基底进行疏水化处理,然后使用LB拉膜机提拉,得到单层的LB量子点薄膜;重复上述步骤,得到多层的LB量子点薄膜。本发明LB成膜技术操作稳定方便,可大面积制膜,而且薄膜的厚度精确可控,可实现对LB量子点薄膜层数的控制。将LB量子点薄膜作为量子点发光层的LED器件性能稳定,可以通过调控LB量子点薄膜的厚度来进一步调控LED器件性能。
申请公布号 CN106340573A 申请公布日期 2017.01.18
申请号 CN201610667105.1 申请日期 2016.08.15
申请人 TCL集团股份有限公司 发明人 刘政;杨一行;曹蔚然;钱磊;向超宇
分类号 H01L33/04(2010.01)I;H01L33/48(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/04(2010.01)I
代理机构 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人 王永文;刘文求
主权项 一种LB量子点薄膜的制备方法,其特征在于,包括步骤:A、将量子点分散于有机溶剂中,然后通过过滤器过滤,得到提纯后的量子点溶液;B、滴加提纯后的量子点溶液到水/乙二醇界面,使量子点溶液均匀分散在水/乙二醇界面,待有机溶剂挥发5‑30mins,量子点均匀平铺,控制膜压7.5‑40mN/m,将水/乙二醇下的基底进行疏水化处理,然后使用LB拉膜机提拉,得到单层的LB量子点薄膜;C、再次滴加提纯后的量子点溶液,重复上述步骤B,得到多层的LB量子点薄膜。
地址 516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区
您可能感兴趣的专利