发明名称 | 用于制造半导体器件裸片的方法 | ||
摘要 | 本公开涉及用于制造半导体器件裸片的方法。在一个实施例中,晶片包括多个裸片区域,每个裸片区域包括半导体器件并且专用于变成单独的裸片。裸片区域设置在晶片的第一面上,并且其中相邻的裸片区域彼此分开。第一沟槽和第二沟槽形成在相邻的裸片区域之间的第一面上。第一沟槽和第二沟槽通过隆起部彼此间隔开。第三沟槽设置在晶片的第二面上的隆起部上方。 | ||
申请公布号 | CN106340491A | 申请公布日期 | 2017.01.18 |
申请号 | CN201610525819.9 | 申请日期 | 2016.07.05 |
申请人 | 英飞凌科技股份有限公司 | 发明人 | M·布劳恩;M·梅纳斯 |
分类号 | H01L21/822(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/822(2006.01)I |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 郑立柱;吕世磊 |
主权项 | 一种用于制造半导体器件的方法,包括:提供包括多个裸片区域的晶片,每个裸片区域包括半导体器件并且专用于变成单独的裸片,其中所述裸片区域形成在所述晶片的第一面上,以及其中相邻的裸片区域彼此间隔开;在相邻的裸片区域之间的所述第一面上形成第一沟槽和第二沟槽,所述第一沟槽和所述第二沟槽通过隆起部彼此间隔开;以及在所述晶片的第二面上在所述隆起部上方形成第三沟槽,所述第二面与所述第一面相对。 | ||
地址 | 德国诺伊比贝尔格 |