发明名称 硅控整流器与静电放电箝制电路
摘要 本发明是关于一种硅控整流器与静电放电箝制电路,其中该硅控整流器包含分离的第一型场、第二型第一场及第二型第二场,形成于第一型井内;连续第一型掺杂区,形成于第一型场内;分段第二型掺杂区,形成于第二型第一场内;及分段第一型掺杂区,形成于第二型第二场内。本发明的一种硅控整流器的新颖架构,其具增强的保持电压。本发明提出另一种多晶硅电阻触发的堆叠硅控整流器,其不会增加触发电压。
申请公布号 CN106340515A 申请公布日期 2017.01.18
申请号 CN201510400312.6 申请日期 2015.07.09
申请人 张俊彦;颜祥修;奇景光电股份有限公司 发明人 张俊彦;颜祥修;张邵勤;江哲维
分类号 H01L27/082(2006.01)I;H01L29/744(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I 主分类号 H01L27/082(2006.01)I
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人 寿宁;张华辉
主权项 一种硅控整流器,其特征在于包含:第一型场、第二型第一场及第二型第二场形成于第一型井内,其中该第一型场、该第二型第一场及该第二型第二场彼此分离;连续第一型掺杂区,形成于该第一型场内;分段第二型掺杂区,形成于该第二型第一场内;及分段第一型掺杂区,形成于该第二型第二场内;其中该连续第一型掺杂区的离子剂量大于该第一型场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;该分段第二型掺杂区的离子剂量大于该第二型第一场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量;且该分段第一型掺杂区的离子剂量大于该第二型第二场的离子剂量,其再大于该第一型井的离子剂量。
地址 中国台湾新竹市大学路1001号