发明名称 |
COMPOSITE CONTACT PLUG STRUCTURE AND METHOD OF MAKING SAME |
摘要 |
실시예의 접촉 플러그는 이중층 구조 및 이중층 구조의 측벽 및 하부 표면 상의 확산 배리어 층을 포함한다. 이중층 구조는 전도성 코어 및 전도성 코어의 측벽 및 하부 표면 상의 전도성 라이너를 포함한다. 실시예의 접촉 플러그에서, 전도성 라이너는 코발트 또는 루테늄을 포함한다. |
申请公布号 |
KR101697827(B1) |
申请公布日期 |
2017.01.18 |
申请号 |
KR20140183524 |
申请日期 |
2014.12.18 |
申请人 |
타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 |
发明人 |
린 유훙;린 셍수안;창 치웨이;초우 유화;수 챠린 |
分类号 |
H01L21/3205;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/3205 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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