| 摘要 |
반도체 집적 회로는 제1 배선층에 형성되는 제1 전원 라인을 포함하는 제1 매크로 셀(macro cell), 제1 배선층에 형성되는 제2 전원 라인을 포함하는 제2 매크로 셀, 제1 연결부 및 제3 전원 라인을 포함한다. 제2 매크로 셀은 상기 제1 매크로 셀과 인접한다. 제1 연결부는 제1 전원 라인과 제2 전원 라인을 전기적으로 연결하도록 제1 배선층에 형성된다. 제3 전원 라인은 제1 배선층과 다른 제2 배선층에 형성되고, 제1 및 제2 전원 라인들에 제1 전원 전압을 제공하도록 제1 전원 라인과 전기적으로 연결된다. |
