| 发明名称 | 双图案化技术中减少颜色密度差异的针脚嵌入 | ||
| 摘要 | 本发明涉及双图案化技术中减少颜色密度差异的针脚嵌入，揭示能减少两个互补曝光掩模及/或布局的窗口之间的密度差异的方法以及用于执行该方法的设备。具体实施例包括：决定具有待由第一及第二掩模解析的特征的IC设计中的层；通过比较所述特征的第一集合的第一密度与所述特征的第二集合的第二密度来决定密度差异；决定在待由该第一掩模解析的第一特征的层上的区域；以及基于该密度差异，在该区域内嵌入待由该第二掩模解析的多边形。 | ||
| 申请公布号 | CN104051234B | 申请公布日期 | 2017.01.18 |
| 申请号 | CN201410092693.1 | 申请日期 | 2014.03.13 |
| 申请人 | 格罗方德半导体公司 | 发明人 | 王道宁;S·马达范;路易奇 卡波迪耶西 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人 | 程伟;王锦阳 |
| 主权项 | 一种用于制造半导体装置的方法，其包括：经由至少一个处理器，决定具有待由第一及第二掩模解析的特征的集成电路(IC)设计的层；经由该至少一个处理器，通过比较所述特征的第一集合的第一密度与所述特征的第二集合的第二密度来决定密度差异；决定在待由该第一掩模解析的所述特征的该第一集合的第一特征的该层上的第一区域；以及基于该密度差异，在该第一区域内嵌入待由该第二掩模解析的多边形。 | ||
| 地址 | 英属开曼群岛大开曼岛 | ||