一种树脂混合物、透明导电膜及其图形化制备方法

摘要

本发明公开了一种树脂混合物、透明导电膜及其图形化制备方法。透明导电膜的图形化制备方法包括以下步骤：S1，清洗透明基底的表面；S2，配制树脂混合物，树脂混合物包括带有羟基、羧基、环氧基或氨基结构的树脂，带有羟甲基结构的交联剂，光引发剂，主体溶剂，高沸点溶剂和助剂；S3，将树脂混合物均匀涂覆在透明基底的表面；S4，将树脂混合物中的溶剂烘干，形成树脂层；S5，将导电材料均匀分布在树脂层上；S6，在45～110℃下加热1～30min；S7，将光掩膜板覆盖在树脂层上，紫外光曝光；S8，在15～40℃下，使用刻蚀液处理曝光后的树脂层；S9，清洗烘干。本发明图形化制备方法，可确保处理复杂图形时的效率，且制备过程工艺简单，制备成本低，制得的产品结合力强。

主权项

一种透明导电膜的图形化制备方法，其特征在于：包括以下步骤：S1，清洗透明基底的表面；S2，配制树脂混合物，所述树脂混合物包括带有羟基、羧基、环氧基或氨基结构的树脂，带有羟甲基结构的交联剂，光引发剂，主体溶剂，高沸点溶剂和助剂，其中，按照所述树脂混合物为100份，所述树脂占1～90份，所述交联剂占0.01～10份，所述光引发剂占0.0001～5份，所述主体溶剂占0～98份，所述高沸点溶剂占0～30份，所述助剂占0～10份；S3，将所述树脂混合物均匀涂覆在所述透明基底的表面；S4，将所述树脂混合物中的溶剂烘干，形成树脂层；S5，将导电材料均匀分布在所述树脂层上；S6，在45～110℃下加热1～30min，使所述树脂层软化；S7，将光掩膜板覆盖在所述树脂层上，在波长为100～400nm的紫外光下曝光3s～0.5h；S8，在15～40℃下，使用可与所述树脂混合物中的主体溶剂互溶的溶剂作为刻蚀液，处理曝光后的树脂层，使导电材料和树脂层图形化；S9，清洗，烘干，制得透明导电膜。