| 摘要 |
상기 방법은 소스 상의 아크 응용 수단에 의해 고체 소스(1)로부터 재료를 증발시키는 단계, 증발된 재료의 이온, 마이크로 입자(증기) 및 전자를 포함하는 플라즈마를 상기 마이크로 입자 및 이온보다 큰 사이즈의 매크로 입자와 함께 형성하는 단계를 포함하는, 진공 중 음극 아크 물리 기상 증착(PVD: Physical Vapor Deposition)에서 매크로 입자를 필터링하는 방법이 개시된다. 상기 아크는 지점 P에서 증발되는 재료의 상기 전자, 상기 마이크로 입자 및 상기 이온이 상기 소스를 마주하여 코팅되는 기판(2)을 향하는 경로로부터 벗어나는 속도 V(표면 속도) 로 상기 소스 상에서 이동되고, 지점 P에서 형성되는 매크로 입자는 상기 아크에 의해 사전에 걸러짐으로써, 상기 매크로 입자의 플라즈마에 대한 자가 세척이 가능해지고 상기 기판 상에 오직 세척된 플라즈마만이 응축될 수 있다. |
