PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXTREME ULTRAVIOLET AND METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN USING THE SAME

摘要

극자외선용 포토레지스트 조성물 및 이를 이용하는 포토레지스트 패턴의 형성 방법을 제공한다. 포토레지스트 조성물에 OOB 흡수 물질을 포함하여, 100 내지 300nm 파장의 광을 흡수하여 포토레지스트 조성물을 이용하여 형성된 포토레지스트 패턴의 분해능을 향상시킬 수 있다. OOB 흡수 물질은 노광된 포토레지스트막을 현상하는 동안 제거됨으로써, OOB 흡수 물질을 제거하는 공정이 따로 필요하지 않을 수 있다.