发明名称 |
发光二极管制造方法及发光二极管 |
摘要 |
一种发光二极管的制造方法,包括以下的步骤:提供一个蓝宝石基板,蓝宝石基板的表面形成有多个凸出部;在蓝宝石基板的表面成长一个未掺杂的GaN层,所述未掺杂的GaN层不完全覆盖所述凸出部以露出凸出部的部分区域;在未掺杂的GaN层表面成长布拉格反射层直至覆盖凸出部的顶部区域;对布拉格反射层以及未掺杂的GaN层进行蚀刻直至露出凸出部的顶部区域;以及在凸出部的顶部区域以及布拉格反射层上依次成长N型GaN层、活性层以及P型氮化镓层。所述布拉格反射层可阻挡未掺杂的GaN层中的缺陷向上延伸,从而降低发光二极管的晶体缺陷。同时,布拉格反射层的高反射率特性也可以提高元件的出光效率。本发明还提供了一种由上述方法所制造的发光二极管。 |
申请公布号 |
CN103811612B |
申请公布日期 |
2017.01.18 |
申请号 |
CN201210449845.X |
申请日期 |
2012.11.12 |
申请人 |
展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 |
发明人 |
邱镜学;林雅雯;凃博闵;黄世晟 |
分类号 |
H01L33/20(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/20(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种发光二极管的制造方法,包括以下的步骤:提供一个蓝宝石基板,蓝宝石基板的表面形成有多个凸出部;在蓝宝石基板的表面成长一个未掺杂的GaN层,所述未掺杂的GaN层不完全覆盖所述凸出部以露出凸出部的部分区域;在未掺杂的GaN层表面成长布拉格反射层直至覆盖凸出部的顶部区域;对布拉格反射层以及未掺杂的GaN层进行蚀刻直至露出凸出部的顶部区域;以及在凸出部的顶部区域以及布拉格反射层上依次成长N型GaN层、活性层以及P型GaN层。 |
地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华街道办油松第十工业区东环二路二号 |