发明名称 发光二极管制造方法及发光二极管
摘要 一种发光二极管的制造方法,包括以下的步骤:提供一个蓝宝石基板,蓝宝石基板的表面形成有多个凸出部;在蓝宝石基板的表面成长一个未掺杂的GaN层,所述未掺杂的GaN层不完全覆盖所述凸出部以露出凸出部的部分区域;在未掺杂的GaN层表面成长布拉格反射层直至覆盖凸出部的顶部区域;对布拉格反射层以及未掺杂的GaN层进行蚀刻直至露出凸出部的顶部区域;以及在凸出部的顶部区域以及布拉格反射层上依次成长N型GaN层、活性层以及P型氮化镓层。所述布拉格反射层可阻挡未掺杂的GaN层中的缺陷向上延伸,从而降低发光二极管的晶体缺陷。同时,布拉格反射层的高反射率特性也可以提高元件的出光效率。本发明还提供了一种由上述方法所制造的发光二极管。
申请公布号 CN103811612B 申请公布日期 2017.01.18
申请号 CN201210449845.X 申请日期 2012.11.12
申请人 展晶科技(深圳)有限公司;荣创能源科技股份有限公司 发明人 邱镜学;林雅雯;凃博闵;黄世晟
分类号 H01L33/20(2010.01)I;H01L33/10(2010.01)I 主分类号 H01L33/20(2010.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种发光二极管的制造方法,包括以下的步骤:提供一个蓝宝石基板,蓝宝石基板的表面形成有多个凸出部;在蓝宝石基板的表面成长一个未掺杂的GaN层,所述未掺杂的GaN层不完全覆盖所述凸出部以露出凸出部的部分区域;在未掺杂的GaN层表面成长布拉格反射层直至覆盖凸出部的顶部区域;对布拉格反射层以及未掺杂的GaN层进行蚀刻直至露出凸出部的顶部区域;以及在凸出部的顶部区域以及布拉格反射层上依次成长N型GaN层、活性层以及P型GaN层。
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