Composition for coating photoresist pattern and method for forming fine pattern using the same

摘要

포토레지스트 패턴 표면에 코팅막을 형성하여 포토레지스트 패턴의 선폭을 축소할 수 있는 포토레지스트 패턴 코팅용 조성물 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법이 개시된다. 상기 포토레지스트 패턴 코팅용 조성물은, 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 고분자 수지, 화학식 2로 표시되는 산성 가교제 및 용매를 포함한다.