发明名称 |
一种基于硫化钴镍核壳三维多级纳米结构的赝电容器正极 |
摘要 |
本实用新型公开了一种基于硫化钴镍核壳三维多级纳米结构的赝电容器正极,所述正极包括泡沫镍基底1、位于泡沫镍基底1上阵列分布的硫化钴镍纳米片2、衔接于硫化钴镍纳米片2两侧的生长阵列分布的硫化钴镍叶片3,所述硫化钴镍纳米片2垂直于泡沫镍基底1,所述硫化钴镍叶片3与硫化钴镍纳米片2沿着泡沫镍基底1反方向呈0~90度。本实用新型公开的正极结构硫化钴镍纳米片阵列直接生长在高导电的泡沫镍基底上,使其具有很高的电子迁移率,有利于实现快速充放电;同时,在纳米片阵列上继续原位生长硫化钴镍叶片,不仅可以增加电极的可利用活性表面,提高其能量密度,并扩大活性材料与电解质的作用速率。 |
申请公布号 |
CN205900332U |
申请公布日期 |
2017.01.18 |
申请号 |
CN201620923525.7 |
申请日期 |
2016.08.23 |
申请人 |
中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
发明人 |
李振湖;刘双翼;李徐;向路;陆文强 |
分类号 |
H01G11/24(2013.01)I;H01G11/26(2013.01)I;H01G11/28(2013.01)I;H01G11/30(2013.01)I;H01G11/86(2013.01)I |
主分类号 |
H01G11/24(2013.01)I |
代理机构 |
北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 |
代理人 |
廖曦 |
主权项 |
一种基于硫化钴镍核壳三维多级纳米结构的赝电容器正极,其特征在于,所述正极包括泡沫镍基底(1)、位于泡沫镍基底(1)上阵列分布的硫化钴镍纳米片(2)、衔接于硫化钴镍纳米片(2)两侧的呈阵列生长分布的硫化钴镍叶片(3),所述硫化钴镍纳米片(2)垂直于泡沫镍基底(1),所述硫化钴镍叶片(3)与硫化钴镍纳米片(2)沿着泡沫镍基底(1)反方向呈0~90度。 |
地址 |
400714 重庆市北碚区方正大道266号 |