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본 발명은 장치의 상황에 맞는 세정을 행할 수 있는 박막 형성 장치의 세정 방법, 박막 형성 방법, 박막 형성 장치 및 기록매체를 제공한다. 열처리 장치(1)의 세정 방법에서는, 제1 클리닝 개시 조건을 만족시키면, 반응관(2) 내에 클리닝 가스를 공급하여 열처리 장치(1)의 내부에 부착된 부착물을 제거하는 제1 클리닝 공정과, 제1 클리닝 개시 조건과는 다른 제2 클리닝 개시 조건을 만족시키면, 제1 클리닝 공정의 클리닝 가스와는 다른 클리닝 가스를 반응실(2) 내에 공급하여 열처리 장치(1)의 내부에 부착된 부착물을 제거하는 제2 클리닝 공정을 실행한다. |
