发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM
摘要 본 발명은 열판에 있어서의 기판의 적재 상태의 이상 유무를 정확성 높게 검출하는 것이다. 노광된 레지스트막이 형성된 기판을 현상하여, 당해 기판의 표면에 패턴을 형성하는 현상부와, 상기 레지스트막이 형성된 기판을 상기 현상 전에 적재함과 함께 가열하는 열판과, 상기 기판의 표면에 있어서의 패턴의 치수의 크기의 분포를 광학적으로 취득하는 분포 취득부와, 패턴의 치수의 크기의 분포에 기초하여, 상기 열판에 있어서의 상기 기판의 적재 상태의 이상 유무를 판정하는 판정부를 구비하도록 장치를 구성한다. 이렇게 패턴의 치수의 크기의 분포에 기초한 판정을 행함으로써, 기판의 적재 상태의 이상 유무에 대해서 정확성 높게 검출할 수 있다.
申请公布号 KR20170006263(A) 申请公布日期 2017.01.17
申请号 KR20160083564 申请日期 2016.07.01
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 가토, 간조
分类号 H01L21/027;H01L21/324;H01L21/66;H01L21/67 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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