发明名称 HORIZONTAL TYPE CHAMBER ASSEMBLY FOR TREATING SUBSTRATE
摘要 본 발명은 수평 방향으로 배치되는 공정가스의 유입구 및 배출구와, 외부에 설치되는 가스 공급부로부터 제공되는 상기 공정가스를 이동시키도록 일측에 형성되는 가스 이동구를 구비하는 챔버 하우징; 상기 챔버 하우징의 유입구를 개폐하도록 형성되는 챔버 도어; 및 상기 챔버 도어의 폐쇄 시, 상기 배출구를 향해 상기 공정가스를 분사하도록 상기 챔버 도어에 설치되며, 상기 공정가스가 이동되도록 상기 챔버 도어의 내부를 따라 형성되는 가스 유로 및 상기 가스 유로와 상기 챔버 하우징의 내부 공간을 연통하도록 상기 챔버 도어의 일면에 형성되는 가스 토출부를 구비하는 가스 분사유닛;을 포함하며, 상기 가스 분사유닛은, 상기 가스 유로와 연결되는 일단과 상기 챔버 도어의 일면에 노출되도록 설치되는 타단을 가지고, 상기 챔버 도어의 폐쇄 시 상기 타단이 상기 가스 이동구와 결합되어 상기 공정가스를 상기 가스 유로로 안내하도록 형성되는 가스 연결구를 더 포함하는, 기판 처리용 횡형 챔버 어셈블리에 관한 것이다.
申请公布号 KR101697205(B1) 申请公布日期 2017.01.17
申请号 KR20160114159 申请日期 2016.09.06
申请人 (주)펨토사이언스 发明人 김무환;장연숙
分类号 H01L21/02;H01L21/3065;H01L21/67 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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