| 摘要 |
본 발명은 기판처리장치의 샤워헤드 어셈블리에 관한 것으로서, 기판에 대향하여 설치되며 복수의 분사공을 구비한 하부샤워헤드와, 상기 하부샤워헤드와 상기 챔버본체의 챔버리드 사이에 배치되며 상부샤워헤드와, 상기 상부샤워헤드와 상기 하부샤워헤드 사이에 배치되어 상기 상부샤워헤드와 상기 하부샤워헤드를 절연시키는 RF절연부를 구비하고, 상부샤워헤드는 상기 하부샤워헤드를 향하여 돌출되어 형성되며 상기 분사공에 삽입되는 플라즈마생성돌기를 구비하여, 샤워헤드 어셈블리를 상부샤워헤드와 하부샤워헤드의 이중구조로 구성하여 기판의 상부에서 직접적으로 플라즈마를 발생시키지 않고 상기 샤워헤드 어셈블리 내에서 플라즈마를 생성시켜 플라즈마에 의해 기판이 손상을 입는 것을 방지할 수 있고, 기판에 손상을 주지 않으면서도 상술한 바와 같은 플라즈마생성돌기와 분사공에 의해 플라즈마의 발생위치를 기판과 가깝게 구성하여 라디컬의 손실을 최소화할 수 있다. |
