Thin film deposition apparatus

摘要

본 발명은 박막증착장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 박막증착장치는 챔버, 상기 챔버의 내측에 구비되어 기판이 안착되는 기판지지부, 상기 기판을 향해 공정가스 또는 세정가스를 공급하는 샤워헤드, 상기 공정가스가 유입되는 가스유입구가 구비된 리드 및 상기 가스유입구를 관통하여 구비되며 상기 공정가스를 분산시키도록 회전 가능하게 구비되는 배플을 구비하는 것을 특징으로 한다.