HARDMASK COMPOSITION METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE HARDMASK COMPOSITION AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE INCLUDING THE PATTERNS INCLUDING THE PATTERNS

摘要

하기 화학식 1로 표현되는 모노머, 하기 화학식 2로 표현되는 부분을 포함하는 중합체, 그리고 용매를 포함하는 하드마스크 조성물을 제공한다. [화학식 1][화학식 2]상기 화학식 1 및 2에서, A, A′, A″, L, L′, X, X′, X, X, m 및 n은 명세서에서 정의한 바와 같다.