荷電粒子ビーム描画装置およびその制御方法

摘要

【課題】マルチビームのブランキング密度が変化しても微小ビームが正しく整列したマルチビームを基板上に照射する。【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置の制御装置は、描画データからマルチビームのブランキング密度マップを取得する工程と、予め求められたブランキング密度マップと、マルチビームの位置ずれ量と、電子レンズの最適制御パラメータとの関係を示すパラメータリストに基づいて、描画データのブランキング密度マップから電子レンズの最適制御パラメータを求める工程を実行する。制御装置は次にこの最適制御パラメータに基づいて、電子レンズを制御する。【選択図】図４