研磨方法及び不純物除去用組成物並びに基板及びその製造方法

摘要

【課題】研磨された研磨対象物上に存在する不純物を十分に除去することができる研磨方法を提供する。【解決手段】表面に有機膜を有する研磨対象物を、砥粒を含有する研磨用組成物を用いて研磨した後に、有機化合物を含有する不純物除去用組成物を用いて研磨して、研磨対象物上に存在する不純物を除去する。有機化合物は界面活性剤及び水溶性高分子の少なくとも一方を有する。界面活性剤は、親水基と、炭素数３以上の炭化水素基を有する疎水基と、を有し、水溶性高分子は主鎖が疎水性である。【選択図】なし