研磨液、貯蔵液及び研磨方法

摘要

【課題】サファイアを速い研磨速度で研磨することができる研磨液を提供すること。【解決手段】平均一次粒径が６０〜１５０ｎｍである少なくとも１種以上の大シリカ、平均一次粒径が４０ｎｍ以下である少なくとも１種以上の小シリカ、水、及び研磨促進剤を含み、大シリカの含有量（Ｌ）を小シリカの含有量（Ｓ）で除した値（Ｌ／Ｓ）が１超であり、研磨促進剤が含窒素芳香族複素環化合物を含み、ｐＨが７．０〜１０．４である、サファイアを含む基体を研磨するための研磨液。【選択図】なし