| 发明名称 |
パターン処理のための組成物及び方法 |
| 摘要 |
【課題】高解像度パターンを有する半導体デバイスの製造において特に適用性があるパターン処理組成物及び方法を提供する。【解決手段】第１のブロックは、エチレン性不飽和重合性基及び窒素含有基である水素受容体基を含む第１のモノマーから形成された単位を含み、第２のブロックは、エチレン性不飽和重合性基及び環式脂肪族基を含む第２のモノマーから形成された単位を含み、第１のブロック及び第２のブロックを含むブロックコポリマーからなる組成物、及びそれを使用するパターン処理法。【選択図】図２ |
| 申请公布号 |
JP2017010015(A) |
申请公布日期 |
2017.01.12 |
| 申请号 |
JP20160111064 |
申请日期 |
2016.06.02 |
| 申请人 |
ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー;ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ |
发明人 |
ヴィプル・ジェイン;ミンキ・リー;ホワシン・ジョウ;ジョン・クン・パク;フィリップ・ディー・フスタッド;ジン・ウク・ソン |
| 分类号 |
G03F7/40;C08F297/00;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/40 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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