基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体

摘要

【課題】基板保持機構により保持された基板に傷が付いたり不純物が付着することのない基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体を提供する。【解決手段】基板処理装置は、保持面２３と吸着部２４とを有する回転自在の基板処理機構２２と、塗布液５０ａを供給するノズル５０とを備えている。ノズル５０から保持面２３周縁部に塗布液５０ａが供給され、塗布液が乾燥して保持面２３上にウエハＷを載置する環状塗布膜２５が形成される。【選択図】図３