发明名称 半導体装置及び半導体装置の製造方法
摘要 【課題】メモリ素子のサイズの安定化、特性劣化の抑制を図る。【解決手段】メモリ素子13は、基板11上に設けられた下部導体13aと、下部導体13a上方に設けられた上部導体13cと、下部導体13aと上部導体13cとの間に介在された中間層13bとを有する。このメモリ素子13に隣接して、基板11上に設けられた下部導体14aと、下部導体14a上方に設けられ下部導体14aと短絡された上部導体14cとを有する通電素子、例えば通電素子14Aが配置される。その下部導体14aにはコンタクト16が接続され、上部導体14cの上面にはコンタクト18が接続される。【選択図】図1
申请公布号 JP2017011196(A) 申请公布日期 2017.01.12
申请号 JP20150127378 申请日期 2015.06.25
申请人 富士通セミコンダクター株式会社 发明人 齋藤 仁
分类号 H01L21/8246;H01L21/8242;H01L27/10;H01L27/105;H01L27/108 主分类号 H01L21/8246
代理机构 代理人
主权项
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