发明名称 基板処理装置
摘要 【課題】非処理面に回り込んだ薬液による非処理面の処理を抑制する。【解決手段】基板を略水平に保持し、所定の回転軸周りに回転可能に設けられた基板保持部と、基板保持部を回転軸周りに回転させる回転機構と、基板の処理面の周縁部の第1回転軌跡における第1位置に当たるように薬液を吐出する薬液吐出ノズルと、基板の処理面とは反対側の非処理面の周縁部の第2回転軌跡における第2位置に当たるようにリンス液を吐出するリンス液吐出ノズルと、を備え、第2位置は、第1位置よりも基板の回転方向の上流側の位置であって、リンス液が基板の周方向に移動して第1位置の近傍に到達したときに、当該リンス液が基板の非処理面から基板の端面に回り込んでいるとともに、処理面の周縁部にほとんど回り込んでいないように、予め設定されている。【選択図】図5
申请公布号 JP2017011011(A) 申请公布日期 2017.01.12
申请号 JP20150122700 申请日期 2015.06.18
申请人 株式会社SCREENホールディングス 发明人 武明 励;安藤 幸嗣;前川 直嗣;安武 陽介
分类号 H01L21/306;H01L21/304 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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