膜形成方法、導電膜、及び絶縁膜

摘要

解像度が高いパターンの膜を提供することである。導電性カーボン層が設けられる工程と、前記導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、前記オーバーコート層の上にマスクが配置される工程と、前記マスクが前記オーバーコート層に密着した状態で、かつ、酸素を有する雰囲気下において、前記マスクの上から紫外線が前記導電性カーボン層に照射される工程とを具備する。