| 摘要 |
【課題】生産性を損なうことなく、かつ装置内に専用スペースを設けることなくダミー基板を保持することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理装置１００は、複数の処理ユニットＵ１〜Ｕ４と、搬送ユニットＩＲ，ＰＡＳＳ，ＣＲと、ステージＳＴ１〜ＳＴ４と、制御ユニット３とを含む。搬送ユニットは、ステージＳＴ１〜ＳＴ４と処理ユニットＵ１〜Ｕ４との間で製品基板Ｗを搬送する。制御ユニット３は、製品基板Ｗをスピンチャック１５に保持させて処理ユニットＵ１〜Ｕ４に基板処理動作を実行させる基板処理制御と、ダミー基板Ｐをスピンチャック１５に保持させて処理ユニットＵ１〜Ｕ４にユニット洗浄動作を実行させるユニット洗浄制御と、ダミー基板Ｐの不使用時にスピンチャック１５またはハンド８Ａ，８Ｂ，１０，１３Ａ，１３Ｂにダミー基板Ｐを保持させて待機させるダミー基板待機制御とを実行する。【選択図】図１ |
