发明名称 酸化物膜
摘要 【課題】導電性が高い酸化物半導体層を有する酸化物半導体トランジスタを提供する。【解決手段】インジウム、ガリウム、亜鉛を含む酸化物(IGZO)及び酸化インジウムの粒子を有する酸化物半導体層と、当該酸化物半導体層中のチャネル形成領域と、ゲート絶縁膜を挟んで重畳するゲート電極と、当該酸化物半導体層中のソース領域及びドレイン領域に重畳するソース電極及びドレイン電極とを有する半導体装置に関する。当該半導体装置は、トップゲート型酸化物半導体トランジスタ又はボトムゲート型酸化物半導体トランジスタであってもよい。また当該酸化物半導体層は、ソース電極及びドレイン電極の上に形成されていてもよいし、ソース電極及びドレイン電極の下に形成されていてもよい。【選択図】図1
申请公布号 JP2017011292(A) 申请公布日期 2017.01.12
申请号 JP20160176490 申请日期 2016.09.09
申请人 株式会社半導体エネルギー研究所 发明人 岡崎 健一;渡邊 正寛;増山 光男
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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