发明名称 電界効果トランジスタおよびその製造方法
摘要 高い電流密度と低いコンタクト抵抗を両立し、良好な特性を有する電界効果トランジスタおよびその製造方法を提供する。基板上に形成されたチャネル層と、チャネル層上に形成されたInAlN層と、InAlN層上に形成されたInxAlyGa1−(x+y)N層(0<x<1、0<y<1、x+y<1)と、InxAlyGa1−(x+y)N層上に形成されたソース電極、ドレイン電極とを備える。
申请公布号 JPWO2014097526(A1) 申请公布日期 2017.01.12
申请号 JP20140552892 申请日期 2013.10.31
申请人 パナソニックIPマネジメント株式会社 发明人 中澤 敏志;上田 哲三
分类号 H01L21/338;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/337;H01L27/098;H01L29/417;H01L29/47;H01L29/778;H01L29/78;H01L29/808;H01L29/812;H01L29/872 主分类号 H01L21/338
代理机构 代理人
主权项
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