| 摘要 |
【課題】残留処理液がデバイス領域に進入することを抑制しつつ上面周縁部を処理する。【解決手段】基板処理装置は、基板を略水平に保持し、所定の回転軸周りに回転可能に設けられた基板保持部と、基板保持部を回転軸周りに回転させる回転機構と、回転軸を中心に回転している基板の上面周縁部の回転軌跡のうち一部の着液位置に当たるように処理液の液流を吐出する処理液吐出部と、回転軌跡のうち着液位置よりも基板の回転方向の上流側の第１位置に向けて上方から不活性ガスの第１ガス流を吐出して第１ガス流を第１位置から基板の周縁に向かわせるとともに、回転軌跡のうち第１位置よりも基板の回転方向の上流側の第２位置に向けて上方から不活性ガスの第２ガス流を吐出して第２ガス流を第２位置から基板の周縁に向かわせるガス吐出部と、を備え、第２ガス流の吐出時の運動エネルギーが、第１ガス流の吐出時の運動エネルギーよりも小さい。【選択図】図１ |
