| 摘要 |
加熱対象物に電磁波を照射して加熱する電磁波加熱装置（１００）は、加熱対象を収容する容器（１０）と、容器（１０）内の加熱対象に電磁波を照射する発振周波数が可変の電磁波照射部（３０）と、電磁波による加熱を制御する制御部（５０）とを具備し、制御部（５０）は、照射する電磁波の周波数を変化させた際の加熱対象物の複素比誘電率の変化を表す複素比誘電率特性を複素平面に描き、さらに、同じ複素平面に無反射曲線を描き、複素比誘電率特性と、無反射曲線との交点から導かれる値に基づいて、電磁波の周波数と加熱対象物の厚みを決定し、それらの値に基づいて電磁波加熱を行う。 |
