| 摘要 |
【課題】荷電粒子ビーム機器の柱体および／または真空試料室内の部品の表面の的を絞ったかつ効率的な洗浄を可能とする。【解決手段】露光モードにおいて、真空試料室２０内で所望のパターンを露光するために、荷電粒子ビームを作るための荷電粒子ビーム光学系を備えた柱体１０と、柱体および／または真空試料室２０の洗浄モードにおいて、光解離可能なガス（Ｏ３）を備えた調節可能なガス流を供給するためにガス供給システムと、複数の光源１５．１〜１５．５であって、これらの光源が空間的に分散された状態で柱体および／または真空試料室内に配置されておりかつ洗浄モードにおいて供給されるガスの光解離をもたらす光源と、光源に接続された制御ユニット３０であって、この制御ユニットが、この制御ユニットを介して洗浄モードにおいて、個々の光源が時間上選択的にスイッチを入り切り可能であるように構成されている制御ユニットを備えている。【選択図】図１ |
