基板上にパターン化された構造を形成するための方法およびシステム

摘要

本開示は、アクセプタ基板（４）上にパターン化された構造（３ｐ）を提供するための方法およびシステムに関する。本方法は、光源（５）とアクセプタ基板（４）との間に配置されるドナー基板（１０）を準備するステップを含む。マスク（７）は、光源（５）とドナー基板（１０）との間に配置される。マスク（７）は、光（６）をパターン化するためにマスクパターン（７ｐ）を備える。ドナー基板（１０）に衝突するパターン化された光（６ｐ）は、ドナー材料（３）をドナー基板（１０）から剥離させ、アクセプタ基板（４）に転写し、パターン化された構造（３ｐ）をその上に形成させる。パターン化された光（６ｐ）は、ドナー基板（１０）から別個の均一なサイズの液滴（３ｄ）の形でドナー材料（３）を剥離させるために、ドナー基板（１０）に同時に衝突する複数の別個の均一なサイズのビーム（６ｂ）に分割される。