| 摘要 |
【課題】微細パターンを確実に精緻に転写可能なフォトマスク、転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法を得る。【解決手段】透明基板上に、少なくとも露光光の一部を遮光する遮光部と、前記透明基板が露出した透光部とを含む転写用パターンが形成されたフォトマスクであって、前記遮光部が、前記遮光部の外周に沿って所定幅に形成されたエッジ領域と、前記遮光部において前記エッジ領域以外の部分に形成された領域とを有し、前記領域は、前記透光部を透過する前記露光光に含まれる代表波長の光に対して略１８０度の位相シフト量を有するように形成され、前記エッジ領域は、前記代表波長の光に対する位相シフト量が、前記領域より小さくなるように形成され、かつ、前記エッジ領域には、前記代表波長の光に対して５０％以下の透過率を有する光学膜が形成されることを特徴とするフォトマスクである。【選択図】図３ |
