| 摘要 |
본 발명은 반도체 제조공정 중에 사용되는 증착, 식각 공정을 위한 프로세서 챔버에서 발생하는 반도체(반응) 부산물이 진공펌프로 흡입되는 것을 방지하기 위하여 구비되는 진공펌프 보호를 위한 회전타입의 부산물 포집장치에 관한 것이다. 이러한 본 발명인 진공펌프 보호를 위한 회전타입의 부산물 포집장치는, 프로세서 챔버와 진공펌프 사이에 구비되어 프로세서 챔버에서 발생하는 부산물이 진공펌프로 흡입되는 것을 방지하도록 하는 부산물 포집장치에 있어서, 상기 부산물 포집장치는, 진공펌프의 흡입력으로 인하여 유입되는 공기가 회전하도록 함으로써 1차 부산물을 포집하도록 하는 회전발생용 공기 유입구를 포함하는 포집용 몸체와, 상부에 유입공기를 다시 회전시켜 2차 부산물을 포집하도록 하는 회전발생용 공기 유입구를 포함하는 다수의 포집용 콘으로 이루어진 부산물 포집용 콘부재와, 유입공기를 다시 상측으로 이동시켜 3차 부산물을 포집하도록 이루어진 다수의 포집용 구멍을 구비하는 포집용 콘부재 커버를 포함하여 진공펌프의 흡입력으로 인하여 유입되는 공기를 회전 및 상측으로 이동시켜 공기 내의 부산물을 포집하도록 이루어진다. |
